公式サイト→2026年 第51回 光学シンポジウム Optical Symposium

 

講演場所：
東京大学 生産技術研究所 An棟 コンベンションホール
(東京都 目黒区 駒場4-6-1)

 

古来の魔鏡現象は現代の半導体検査でなお活用されている。魔鏡は手軽にウエハーの欠陥を映し出し使い勝手が良いが、定量化できないため、判定には詳細な分析や経験が必要だった。我々は、魔鏡現象が被検体からの反射後の空間伝搬によって顕在化した干渉現象であると捉え、強度輸送方程式を適用して複数の照度分布から、被検面の凹凸量の定量化を試みた。本発表では、開発した手法と干渉計での測定との比較検証を行い報告する。

 

皆様のご来場を心よりお待ちしております。