偏光露光装置

Polarized Exposure System

偏光消光比50:1以上・照度分布±3%以内。均一性に優れた高品位な偏光紫外線を照射。

山下電装の「偏光露光装置」は、水銀キセノンランプを光源とし、最先端の光配向技術や機能性材料の評価に不可欠な「一定の偏光光のみ」を極めて高い均一性で選択照射する高度な紫外線照射装置です。

独自の紫外線コールドミラーと光学インテグレータ(オプティカルインテグレータ)を組み合わせることで、照度分布±3%以内という優れた均一性を実現。さらに、偏光消光比50:1以上(偏光度98%以上、S波を使用)という極めて高い品位の偏光光の抽出を可能にしました。高透過率干渉フィルター(オプション)による照射波長の厳密なセレクトにも対応し、次世代デバイスの研究開発から生産プロセスまで、高度な偏光露光環境をトータルにサポートします。

偏光露光装置の主な特長・導入メリット

偏光消光比50:1以上(偏光度98%以上)の優れた光品位

水銀キセノンランプの強力な紫外線から、一定の振動方向を持つ極めて純度の高い偏光光(S波)のみを選択的に抽出します。消光比50:1以上というシャープな偏光特性により、光配向膜の制御など、精密な分子配向が要求される実験・生産プロセスにおいて確実な処理結果をもたらします。

照度分布±3%以内を達成する「光学インテグレータ」搭載

紫外線コールドミラーと光学インテグレータを巧みに組み合わせた光学系により、照射面全体の光量ムラを極限まで抑えた「照度分布±3%以内」の均一露光を実現。大面積や特殊形状の照射エリアであっても、場所による露光エラーや特性のブレを防ぎます。

「高透過率干渉フィルター」で最適な照射波長をセレクト

オプションとして「高透過率干渉フィルター」を装着可能。250nm〜500nmの幅広い帯域の中から、対象となる機能性材料やレジスト、配向膜の分光感度特性に完全にマッチした特定の紫外線波長だけをピンポイントで選択・照射できます。

照射面積・照射強度は自由自在な「完全カスタム対応」

お客様のワークサイズや処理タクトに合わせて、照射面積および照射強度はご要望に応じた個別設計・製作を行います。既存の生産ラインへのビルトインや、実験室のベンチトップ環境に合わせた筐体カスタマイズにも柔軟に対応可能です。

偏光露光装置
偏光露光装置

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型式・仕様スペック

お客様がターゲットとされる機能性材料・配向膜の特性や、ご希望のワークサイズ、照射タクトに合わせて、最適な照射面積・強度・光学系を組み合わせたオーダーメイド(特注開発)を基本としております。ご希望の仕様をお気軽にご相談ください。

型式・仕様スペック

主な用途・対応アプリケーション

液晶分子や機能性薄膜の「光配向(フォトアライメント)」処理

次世代ディスプレイ向けの液晶配向膜などに対し、非接触で均一な分子配向を促すための高品位偏光紫外線露光。

光異性化・光架橋など、偏光依存性を持つ高分子材料の研究開発

特定の偏光方向にのみ反応する機能性ポリマーや有機材料の評価試験、および波長選択フィルターを用いた分光特性解析。

精密光学部品・偏光素子の耐光性・信頼性評価試験

均一な偏光紫外線を一定時間連続照射することによる、各種光学マテリアルや偏光板の劣化シミュレーションおよび寿命予測。

オプション(柔軟なシステム拡張に対応)

お客様の露光プロセスや波長特性ニーズに合わせて、以下の柔軟なオプション追加が可能です。

高透過率干渉フィルター

紫外線光源の光路に統合することで、透過率を損なうことなく特定のターゲット波長(例:特定の輝線など)のみをシャープに抽出・照射します。材料の反応効率を最大化させたい場合に最適です。

お問い合わせ・カタログ請求・カスタマイズのご案内

Catalogs / Product customization consultations

「自社の光配向研究で用いる□50mmのワークに対し、指定の波長で均一に偏光露光を行いたい」「ラインの搬送構造に合わせて、照射強度を高めた特注仕様の偏光露光システムを構築したい」「高透過率干渉フィルターの波長ラインナップや、過去の特注製作実績について詳しく知りたい」など、お客様の研究・生産プロセスに合わせた最適な偏光露光ソリューションをご提案いたします。

製品カタログのご請求や、仕様に関するご相談・お見積もりのご依頼など、どうぞお気軽にお問い合わせください。

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